हॉट रनर जंग को विलंबित करने के लिए किन तरीकों का उपयोग किया जा सकता है?

Apr 10, 2026

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हॉट रनर जंग में देरी करने की मुख्य विधि चार पहलुओं से सहक्रियात्मक रूप से काम करना है: सामग्री चयन, सतह सुरक्षा, प्रक्रिया नियंत्रण और सिस्टम डिज़ाइन। मुख्य बात हाइड्रोफ्लोरोइक एसिड (एचएफ) गठन मार्ग को अवरुद्ध करना और इलेक्ट्रोकेमिकल संक्षारण स्थितियों को खत्म करना है। इनमें से, NCF800 जैसे संक्षारण प्रतिरोधी मिश्र धातुओं का चयन करना, सिरेमिक कोटिंग्स लगाना, प्रसंस्करण तापमान को 350 डिग्री से कम या उसके बराबर नियंत्रित करना और असमान धातुओं के बीच संपर्क से बचना चार महत्वपूर्ण उपाय हैं।

 

I. सब्सट्रेट प्रतिरोध को बढ़ाने के लिए संक्षारण प्रतिरोधी सामग्री को प्राथमिकता देना

उत्कृष्ट उच्च तापमान प्रतिरोध और संक्षारण प्रतिरोध के साथ मिश्र धातु सामग्री का चयन इसके स्रोत पर संक्षारण में देरी के लिए मौलिक है।

NCF800 मिश्र धातु (Fe-Ni-Cr आधारित):

भाप, वायु और कार्बन डाइऑक्साइड मिश्रण के लिए उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध, उच्च तापमान वाले वातावरण के लिए उपयुक्त।

नाइट्रिक एसिड, एसिटिक एसिड और प्रोपियोनिक एसिड जैसे कार्बनिक एसिड के प्रतिरोधी, रासायनिक और गर्मी उपचार भट्टी अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त।

नोट: उच्च - सांद्रण हाइड्रोफ्लोरिक एसिड (एचएफ) में खराब प्रदर्शन; परिचालन स्थितियों के आधार पर मूल्यांकन की आवश्यकता है।

N06030 मिश्र धातु (उच्च क्रोमियम निकल आयरन आधारित):

गीली प्रक्रिया में फॉस्फोरिक एसिड और नाइट्रिक एसिड + हाइड्रोफ्लोरिक एसिड मिश्रण में मजबूत स्थिरता; संक्षारण प्रतिरोध G3 और 20 मिश्र धातुओं से बेहतर है। कम -कार्बन + नाइओबियम स्थिरीकरण डिज़ाइन अंतरग्रंथि संक्षारण के लिए मजबूत प्रतिरोध प्रदान करता है; किसी पोस्ट-वेल्ड ताप उपचार की आवश्यकता नहीं है।

सिफ़ारिश: पीएफए/पीटीएफई मशीनिंग के लिए, एचएफ प्रतिरोध में उल्लेखनीय सुधार के लिए एन06030 या टाइटेनियम मिश्र धातु घटकों को प्राथमिकता दें।

 

द्वितीय. सतह की सुरक्षा को मजबूत करें और एक भौतिक अवरोध का निर्माण करें

संक्षारक मीडिया को प्रभावी ढंग से अलग करने के लिए सतह उपचार तकनीक के माध्यम से धातु की सतह पर एक सुरक्षात्मक परत बनाएं।

सुरक्षा के तरीके, सिद्धांत और प्रभाव:

सिरेमिक कोटिंग (उदाहरण के लिए, Al₂O₃-TiO₂): एक घनी, निष्क्रिय फिल्म बनाती है, जो HF प्रवेश को अवरुद्ध करती है। 2000 घंटे के नमक स्प्रे परीक्षण के बाद भी जंग मुक्त रहता है।

रासायनिक निकेल-फॉस्फोरस चढ़ाना (नी-पी): समान रूप से जटिल संरचनाओं को कवर करता है, संक्षारण और पहनने के प्रतिरोध प्रदान करता है। 1000 घंटे से अधिक समय तक नमक स्प्रे का प्रतिरोध करता है।

हार्ड क्रोमियम प्लेटिंग: सतह की कठोरता और ऑक्सीकरण प्रतिरोध में सुधार करता है। कम लागत, लेकिन सीमित एचएफ प्रतिरोध।

इंजीनियरिंग अनुशंसा: नोजल और वाल्व सुई जैसे महत्वपूर्ण घटकों के लिए सिरेमिक कोटिंग्स को प्राथमिकता दें, संक्षारण और पहनने के प्रतिरोध को संतुलित करें।

 

तृतीय. संक्षारण स्रोतों को खत्म करने के लिए प्रक्रिया मापदंडों को अनुकूलित करें

पीएफए ​​और पीटीएफई जैसी सामग्रियां उच्च तापमान पर विघटित होकर हाइड्रोफ्लोरिक एसिड (एचएफ) का उत्पादन करती हैं, जो रासायनिक संक्षारण का एक प्रमुख कारण है।

तापमान नियंत्रण रणनीति: सामग्री पायरोलिसिस को रोकने के लिए हॉट रनर ऑपरेटिंग तापमान को 350 डिग्री से कम या उसके बराबर बनाए रखें। प्रयोगों से पता चलता है कि तापमान को 360 डिग्री से 340 डिग्री तक कम करने से एचएफ उत्पादन 60% से अधिक कम हो सकता है।

निवास समय प्रबंधन:

रनर में पिघल के निवास समय को कम करने के लिए इंजेक्शन चक्र को अनुकूलित करें (अनुशंसित)।<10 minutes).

अम्लीय उत्पादों के संचय को रोकने के लिए सफाई के बिना लंबे समय तक शटडाउन से बचें।

नाइट्रोजन संरक्षण:

अवशिष्ट एचएफ गैस को हटाने और संक्षारण जोखिम को कम करने के लिए शटडाउन या सामग्री की सफाई के दौरान शुष्क नाइट्रोजन का परिचय दें।

 

चतुर्थ. इलेक्ट्रोकेमिकल खतरों को खत्म करने के लिए सिस्टम डिज़ाइन में सुधार करें:

इलेक्ट्रोकेमिकल संक्षारण अक्सर शीतलन जल चैनलों और सम्मिलित अंतराल जैसे क्षेत्रों में होता है; इन जोखिमों को कम करने के लिए संरचनात्मक डिजाइन आवश्यक है।

असमान धातुओं के बीच संपर्क से बचें: पानी को ठंडा करने के लिए तांबे के पाइप के बजाय स्टेनलेस स्टील के नालीदार पाइप का उपयोग करें। गैल्वेनिक संक्षारण को रोकने के लिए इन्सर्ट और बेस सामग्री के लिए एक ही सामग्री (उदाहरण के लिए, एच 13+ एच 13) का उपयोग करें।

इन्सुलेशन और अलगाव:

विभिन्न धातु कनेक्शनों पर पीटीएफई गास्केट या सिरेमिक इंसुलेटिंग स्लीव्स स्थापित करें।

ठंडा जल प्रबंधन: पीएच मान को 7.0~8.5, चालकता पर नियंत्रित करें<800 μS/cm. Add silicate corrosion inhibitor (concentration 300~500ppm).

फ़ील्ड निमोनिक: "उच्च तापमान रासायनिक सुरक्षा, नमी विद्युत सुरक्षा, असमान सामग्री इन्सुलेशन, नियमित पानी की जाँच।"

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